近日,正宇科创公司施工的电影制片厂二期E1地块项目CSM止水帷幕顺利完工,项目位于武汉市江汉区青年路以东、万松园横路以西,占地面积17亩,主要建设1栋52层综合写字楼,总建筑面积11万平方米,建成后将成为江汉区青年路城市地标。
项目基坑面积10152.6m²,周长411m,普挖深度18.2~19.0m,最大开挖深度22m,下设四层地下室;基坑支护结构采用了CSM落底+地连墙不落底(支护兼做加强止水)的新方式,相较于以往开挖深度20.0m左右基坑普遍采用的落底式地连墙加接缝加强止水方式,更安全、更经济、更合理、更便捷。
项目周边环境异常紧张,基坑西侧紧邻武汉轨道交通2号线、东侧紧邻50年代天然基础老旧房屋,对施工及降水异常敏感。CSM隔渗效果好,是低气压、低浆压下的原位搅拌施工工艺,可最大程度降低施工及降水对周边构建物的影响,同时降低工程造价、缩短工期。
CSM需穿透深厚密实砂层和卵砾石进入基岩,深度超过54m,钻机的钻进难度大,正宇科创公司管理团队考虑到工期紧张,在项目启动前进行精细筹划、紧密部署,制定合理的施工方案;CSM施工班组贯彻落实,踏实肯干,积极与甲方沟通,服从总包管理,努力克服现场三家分包单位大型设备交叉作业的重重困难,最终提前完工,展示了正宇科创在CSM领域的技术优势和项目管理能力,优秀的止水帷幕为后续基坑开挖降水提供了有力的保障。
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